電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學的水處理技術(shù)。...

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電去離子系統(tǒng)的作用是精除鹽。在使用RO滲透水脫除97～99%離子的前提下，EDI可直接將反滲透產(chǎn)水提純到純水、高純水、超純水的標準，而無需使用離子交換混床，其產(chǎn)水的電阻率最高可達18MΩ·cm。...

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通過獨特的設計，使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室，使水中雜質(zhì)離子被樹脂吸附，從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生，因此保持活性。而釋放的雜質(zhì)離子將在直流電場的作用下，定向移動，通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。...

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拋光混床的樹脂是不能再生重復使用的。拋光混床又稱一次性混床一般情況用在工藝末端，用來更進一步提高產(chǎn)水水質(zhì)。為獲得電子、醫(yī)藥或其他行業(yè)用電導率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ·cm）的理論純水，在普通混床或EDI凈水設備后，通常還裝設拋光混床進行最終的精處理。...

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我司生產(chǎn)的超純水設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。...

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電子超純水設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
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半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準18MΩ.cm以上...

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EDI是一種將離子交換技術(shù)(電滲析)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。它巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合，利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動，并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除，從而達到水純化的目的。...

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