半導體超純水設備的工藝流程介紹
文章作者: 宏森環(huán)保
傳統(tǒng)的半導體超純水設備采用電滲析和離子交換器，而最新的半導體超純水設備則是將離子交換器和電滲析兩者相結合的一種新型除鹽技術，可以除掉水中的陰陽離子，出水電阻率在15MΩ.CM以上。
那么，半導體超純水設備的工藝，你了解嗎？今天就由宏森環(huán)保來為大家介紹一下半導體超純水設備的工藝。
1、采用離子交換方式(離子交換工藝參數)，其流程如下：原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。
3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點。
以上就是關于半導體超純水設備的工藝流程介紹，有不明白的歡迎咨詢宏森環(huán)保客服人員，我們將竭誠為您服務。
